光學玻璃生產過程中的清洗技術
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鍍膜前清洗
　　鍍膜前清洗的主要汙染物是求芯油（也稱磨邊油，求芯也稱定芯、取芯，指為了得到規定的半徑及芯精度而選用的工序）、手印、灰塵等。由於鍍膜工序對鏡片潔淨度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方麵的問題。
　　鍍膜前的清洗一般也采用與研磨後清洗相同的方式，分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學藥劑類型如前所述。
　　鍍膜後清洗
　　一般包括塗墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗（接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規定的形狀，以滿足無法一次加工成型的需求，或製造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序）要求zui為嚴格。接合前要清洗的汙染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對於鏡片表麵潔淨度有非常高的要求，其清洗方式與前麵兩個清洗工藝相同。
　　半水基清洗是近年來逐漸發展成熟的一種新工藝，它是在傳統溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入汙水處理係統；設備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑zui為突出的一個優點就是對於研磨粉等無機汙染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了後續單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。
　　它的缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢，並且必須要進行漂洗。